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    投影式曝光会在掩膜版和光刻胶之间使用透镜聚光来提高分辨率。

    所以投影式曝光工艺是眼下芯片加工的主要工艺。

    不过投影式曝光只是大方向。

    下面还有不同的加工工艺分支。

    如进步式、扫描式、离轴同轴等等……

    其实芯片制造的难点就在这些加工工艺上了。

    不同的加工工艺代表了不同的生产速度和良品率。

    生产效率自然不可同日而语。

    而国内的光刻机之前的光源技术还停留在一代的水平。

    虽然曝光工艺也是投影式，但曝光工艺落后，生产速度和效率不行。

    而苏翰说的突破，分三个层面，一个是光源上的突破,    一个就是曝光工艺上的突破,    还有各种生产材料上的突破。

    以前的国产光刻机是一代g光源。

    经过一年多的辛苦研发。

    终于突破到了二代i光源。

    毕竟这会的光刻机光源技术还没有未来那么变态。

    只要钱到位突破起来还是有可能的。

    制约芯片生产主要是投影式曝光的工艺流程。

    苏翰对光刻机的相关知识其实了解的并不多,    但他知道很多芯片设计图纸,    其实从这些图纸上他就能推算出对方的工艺顺序到底是什么。

    毕竟他是精通芯片设计的，只是不精通设备生产和制造而已。

    不过有了工艺顺序，起码有个模糊的答案。

    虽然答案并不能保证百分之百准确。

    但苏翰并不是要百分之百准确的答案。

    百分之百准确不是抄袭别人了吗。

    这样容易惹起知识产权的纠纷。

    苏翰只是给光刻机生产团队一个工艺思路，剩下的就叫光刻机生产团队自己去想办法。


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